
11月10日,三井金属株式会社宣布,拟斥资1900亿日元在马来西亚建设一座新的铜箔工厂,以满足未来AI和半导体市场快速增长的需求。
新工厂将坐落于公司合并子公司三井铜箔(马来西亚)有限公司现有厂房附近,新建产能预计从2031年4月起分阶段投产。
新工厂将生产MicroThin超薄铜箔,以及用于高频电路板的VSP电解铜箔。产能方面,三井金属计划在2031至2033财年期间,累计新增MicroThin产品产能400万m²/月,累计新增VSP铜箔产能1200吨/月。
完成扩产后,该公司旗下所有生产基地的MicroThin总产能将达到1200万m²/月,VSP铜箔总产能则达到2600吨/月。

值得注意的是,未来新厂区可容纳高达每月3600吨的VSP产能,随着市场持续扩大,三井金属还将考虑进一步扩大旗下生产基地的整体产能至每月5000吨。
三井金属预计,随着扩产计划逐步落实,铜箔业务2030财年的营运盈利将达到2025财年的3.2倍,并在2033财年进一步增至5.5倍。
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采集来源:三井金属拟斥资1900亿日元新建铜箔工厂,满足AI和半导体市场需求
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