物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，简称PVD），是通过物理手段将固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子(等离子体)，在真空空间输运到玻璃、金属、陶瓷、塑料或有机材料等固体材质（简称基材、基板或基片）表面并沉积成薄膜的方法，是当今先进的表面处理方式之一。

PVD 镀膜技术主要有真空蒸发镀膜、真空磁控溅射镀膜和真空离子镀膜三种主流技术：

➢ 真空蒸发镀膜，是指加热膜材使表面组分以原子团或分子团形式被蒸发出来，并沉降在基片表面形成薄膜。根据加热方法不同，蒸发镀膜又分为热蒸发和电子束蒸发；

➢ 真空磁控溅射镀膜，用高能等离子体轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。磁控溅射常用于多层薄膜的精细制备，如在高反射镜和滤光膜中的应用；

➢ 真空离子镀膜，在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质（膜材）部分离化，在工作气体离子或被蒸发物质的离子轰击作用下，把蒸发物或其反应物沉积在被镀基片表面。

图 三种PVD技术对比，图源民生证券

利用真空镀膜技术镀制薄膜后，可使材料表面获得新的复合性能并实现新型的工程应用，赋予材料表面新的机械功能、装饰功能和声、电、光、磁及其转换等特殊功能（例如防辐射、增减透光、导电或绝缘、导磁、抗氧化、耐磨损耐高温耐腐蚀等），从而改善产品原有性能、提高产品质量、延长产品寿命等。

相较于传统电镀、化学镀等工艺，真空镀膜技术具有以下优势：

➢ 膜层与工件表面的结合力强，更加持久和耐磨；

➢ 使用的镀膜材料种类丰富，可镀膜层种类广；

➢ 膜层厚度更易控制；

➢ 适用范围更广；

➢ 在操作过程中更加节能、安全、环保等。

作为表面处理技术的一项重要分支，真空镀膜技术应用领域从基础的五金装饰到消费电子，从工模具到航空航天等都有广泛应用，已成为生产制造行业中重要的环节之一。

在消费电子领域，真空镀膜工艺可用于显示面板、消费电子产品结构件（中框、盖板等）、摄像头等产品的加工。

● 显示面板制造，玻璃基板要经过多次磁控溅射镀膜形成ITO玻璃，再经过镀膜覆盖，加工组装用于生产液晶显示器的显示面板；

● 3C结构件表面镀膜，增强硬度、耐磨、抗反射（AR）、抗指纹（AF）等属性，提升美观度、手感和功能性，主要应用于手机前后盖板、中框、摄像头保护盖板等；

● 光学镜头、镜头保护片镀膜，具有增透、反射、红外截止、防污、耐磨等属性，改善成像质量与耐用性，用于各类型镜头制作工艺；

图 真空镀膜工艺在手机上的应用，摄自汇成真空展台